Process Control
공정 결과를 보고,
다음 recipe를 계산합니다
Process Control은 공정 결과와 목표값, 장비의 조작변수와 제약조건을 바탕으로 다음 run의 공정 조건을 계산하는 App입니다. R2R control부터 feedforward·
평균값 보정에서
wafer profile까지
장비의 조작변수와 공정 목적에 맞춰 제어 전략을 구성합니다. Studio에서 예상 결과를 검증한 뒤 Runtime에서 양산에 연결합니다.
제어 목적과 전략 정의
목표값, 제어 주기, feedback·
적용 전 예상 결과 검증
Digital Twin에서 recipe 변화와 예상 공정 결과, 제약조건과 예외 상황을 먼저 확인합니다.
양산에서 지속 제어
Runtime에서 계산 결과와 적용 상태를 확인하고 공정 변화에 맞춰 모델과 운영 기준을 계속 개선합니다.
R2R Process Control
Wafer-to-wafer, lot-to-lot 결과를 다음 run의 공정 조건에 반영해 목표값 주변의 변동을 줄입니다.
Profile Control
Multi-zone actuator가 있는 장비에서는 zone별 조작변수로 within-wafer profile과 WIWNU를 함께 관리합니다.
Feedforward + Feedback
이전 공정 결과와 현재 공정 결과를 함께 이용해 upstream variation과 장비 drift를 분리해 대응합니다.
Constraint-aware Recipe
장비 한계와 공정 제약조건을 반영해 실행 가능한 recipe 범위 안에서 제어값을 계산합니다.