Process Control
工程結果から、
次のレシピを
計算する
Process Controlは、工程結果と目標値、装置の操作変数と制約条件をもとに、次runの工程条件を計算するAppです。R2R controlからfeedforward・feedback、multi-zone Profile Controlまで、同じ構造で構成・検証できます。
平均値補正から
ウェハプロファイル
制御まで
装置の操作変数と工程目的に合わせて制御戦略を構成します。Studioで予想結果を検証した後、Runtimeで量産に接続します。
制御目標と戦略を定義
目標値、制御周期、feedback・feedforward情報と、使用する操作変数を定義します。
投入前に期待挙動を検証
Digital Twinでrecipeの変化と予想される工程結果、制約条件、例外状況を先に確認します。
量産で制御を継続運用
Runtimeで計算値と適用状態を確認しながら、工程変化に応じてモデルと運用基準を更新します。
R2R Process Control
ウェハ間・ロット間の結果を次ランへ反映し、目標周辺のばらつきを低減します。
Profile Control
Multi-zone actuatorを持つ装置では、zoneごとの操作変数でwithin-wafer profileとWIWNUを一緒に管理します。
Feedforward + Feedback
上流結果と現工程フィードバックを組み合わせ、流入ばらつきと装置ドリフトへ別々に対応します。
Constraint-aware Recipe
装置限界と工程制約を守りながら実行可能なレシピ範囲で制御値を計算します。